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Remote Plasma System - Chamber
상세정보
Process Chamber 및 Pump 內 부산물(Powder or Metal성 막질) 제거로 MTBF와 PM 주기 개선
- F*(라디칼)형성을 통해 부산물을 제거하는 Remote plasma 장치
■ 기술 사양
- RF Power 방식 : Max 10kW
■ 적용 공정
- Metal : W, WN, TiN
- CVD : SiO2 (TEOS), ACL, Mold
- Diff : EPI 공정